ПРИШЛИТЕ СВОЮ НОВОСТЬ!
Лента новостей
Выбрать категорию:
17 сентября
16 сентября
15 сентября
ГОЛОСОВАНИЕ
Нужна ли астрономия в качестве школьного предмета?

Республика Татарстан: Физики КФУ исследуют плазму, чтобы улучшать свойства материалов

18 августа, 22:21

 

18 августа — Молодежные новости. В рамках проекта, поддержанного грантом Российского научного фонда, группа молодых ученых исследует высокочастотную плазму пониженного давления, чтобы с ее помощью модифицировать поверхности функциональных материалов.

Высокочастотная плазма пониженного давления применяется для изменения свойств  материалов различной физической природы – сталей, полимеров, кожи, меха и других.

Руководителем гранта РНФ «Численное и экспериментальное исследование высокочастотной плазмы пониженного давления для модификации поверхностей функциональных материалов» является доцент Института физики КФУ Александр Шемахин.

«Для того чтобы обрабатывать материалы, необходимо сделать установки, в которых будет создаваться высокочастотная плазма пониженного давления (ВЧ-плазма). Цель нашего проекта - построение и исследование математических моделей для нелинейных процессов, происходящих в ВЧ-плазме пониженного давления и процессов взаимодействия с образцом. Математическое моделирование позволяет существенно ускорить процесс изучения физического явления и получить широкий диапазон данных с помощью численного экспериментирования. Для верификации математической модели будет проведена серия натурных экспериментов по определению основных параметров плазмы», - рассказал молодой ученый.

По словам Александра Шемахина, модифицируя поверхности материалов с помощью ВЧ-плазмы пониженного давления, можно изменять присущие им свойства или наделять их новыми. Так, например, можно увеличивать прочность некоторых металлов, усиливать водоотталкивающие свойства изделий из кожи, делать биосовместимые материалы бактерицидными.

Результатом проведенных исследований станет выработка рекомендаций по управлению газо-, электро-, плазмодинамическими параметрами воздействия ВЧ-плазмы пониженного давления на материалы.

Источник: Медиапортал КФУ